江苏鲁汶仪器有限公司于2015年，由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。公司总部位于江苏省徐州市，在北京设有研发中心，在上海、广州、武汉、西安、成都、台湾新竹、新加坡、韩国光州等地设有市场和技术服务中心。 公司拥有国际化的专家团队和苏北地区首家“诺贝尔奖得主工作室”。技术团队由诺贝尔奖获得者、三名国家级专家、多名国内外半导体领域知名教授、首席工程师、及高校科研院所的年轻技术骨干组成。 作为以创新为主导的全球性高科技半导体装备企业，鲁汶仪器以其国际化团队研发出全球领先的新型12英寸特种金属膜层刻蚀系统，为先进的集成电路制造生产线提供磁存储器（MRAM）、阻变存储器（ReRAM）和相变存储器（PCRAM）等非易失性存储器中特种金属膜层的刻蚀装备和工艺解决方案。
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09-09发布
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